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半導體干泵iXM 系列 —— 低能耗性能

通過(guò)增加正常運行時(shí)間、減少對環(huán)境的影響以及良好的成本效益，iXM 低能耗干泵可為您的關(guān)鍵應用帶來(lái)真正的制程改進(jìn)。

高效的根源機制可將輸入功率減少多達 60％，從而減少對環(huán)境的影響并降低總體使用成本
氣體阻隔技術(shù)和隔熱設計方面的改進(jìn)使產(chǎn)品的抗腐蝕性比我們之前的系列提高了四倍
先進(jìn)的粉塵處理功能可為多層蝕刻工藝提供更高的可靠性，延長(cháng)真空泵使用壽命，并降低 CVD 工藝的功耗
緊湊輕巧的設計，加上極低的噪聲和振動(dòng)，可提供更多的用途
采用 Xcede 技術(shù)，增強了耐腐蝕性。

半導體干泵用于重型應用的 iXH 系列

iXH 干泵系列為嚴苛的工藝能力、可靠性和更低的擁有成本樹(shù)立了新標準。

寬廣的溫度范圍使您可以對真空設備進(jìn)行優(yōu)化，更大地減少冷凝和電鍍的副產(chǎn)物累積
iXH Mk2 干泵可在嚴苛的工藝中提供更長(cháng)的使用壽命，并且可以顯著(zhù)提高功效
創(chuàng )新的密封技術(shù)可以延長(cháng)制程壽命并降低泄漏風(fēng)險
采用 Xcede 技術(shù)，增強了耐腐蝕性。

半導體干泵用于輕型應用的 iXL 系列

iXL 系列是系列低能耗緊湊型干泵，適用于輕量應用，例如晶片處理、PVD 和計量。

快速腔體抽空和極低功耗 
iXL600(N) 和 iXL1000(N) 干泵是輕量應用中小、安靜的泵之一 
iXL600M 和 iXL1000M 兩種型號經(jīng)過(guò)工藝加固，專(zhuān)門(mén)設計用于電介質(zhì)（氧化）蝕刻和其他類(lèi)似應用 
iXL600(N) 和 iXL1000(N) 干泵具有高抽取速度和低能耗的特點(diǎn)
iXL900R 是目前同類(lèi)產(chǎn)品中速度快的負載鎖定泵，用于 FPD 負載鎖定應用。使用這種新型泵，客戶(hù)可以顯著(zhù)降低其運營(yíng)成本和安裝時(shí)間，特別適用于等離子體氣相沉積 (PVD) 應用的大負載鎖定腔室。此外，每個(gè)負載鎖定腔室需要的泵會(huì )更少，從而減少了客戶(hù)的安裝時(shí)間、系統化成本、維護和公共設施消耗。
“綠色模式”可減少閑置期間的公共設施使用、降低成本并有助于提高環(huán)境績(jì)效